真空甲酸共晶爐
產(chǎn)品型號(hào)：KD-V43H
簡(jiǎn)介介紹：真空甲酸共晶爐KD-V43H特別適合樣品，實(shí)驗(yàn)室，高校，科研機(jī)構(gòu)等使用
詳情介紹
真空甲酸共晶爐KD-V43H產(chǎn)品特點(diǎn)
1、觀(guān)察系統(tǒng)：腔體帶可視窗口, 可實(shí)時(shí)觀(guān)察焊接過(guò)程；
2、加熱系統(tǒng)：適應(yīng)IGBT模塊、大功率器件、LED封裝等焊接工藝；
3、真空系統(tǒng)：設(shè)備配置直聯(lián)高速旋片式真空泵，可快速實(shí)現(xiàn)爐腔達(dá)到0.1mbar高真空環(huán)境；
4、冷卻系統(tǒng)：設(shè)備采用水冷卻系統(tǒng)，保證在高溫真空環(huán)境下可以快速降溫；
5、軟件系統(tǒng)：升降溫可編程控制，可根據(jù)工藝設(shè)置升降溫曲線(xiàn)，每條曲線(xiàn)都可自動(dòng)生成，可編輯、修改、存儲(chǔ)等；
6、控制系統(tǒng)：軟件模塊化設(shè)計(jì)可獨(dú)立設(shè)置工藝曲線(xiàn)、真空抽取、氣氛、冷卻等，并可合并生產(chǎn)工藝，實(shí)現(xiàn)一鍵操作；
7、氣氛系統(tǒng)：設(shè)備實(shí)現(xiàn)無(wú)助焊劑焊接，可充入H2、HCOOH、N2等還原或保護(hù)性氣體；
8、數(shù)據(jù)記錄系統(tǒng)：具有不間斷的實(shí)時(shí)監(jiān)控和數(shù)據(jù)記錄系統(tǒng)，軟件曲線(xiàn)記錄、溫控曲線(xiàn)保存、工藝參數(shù)保存、設(shè)備參數(shù)記錄、調(diào)用；
9、加熱板隔層承重，單層承重≥10公斤；
10、快速的降溫速度：腔體中設(shè)立了獨(dú)立的水冷和氣體冷卻裝置，使被焊接器件實(shí)現(xiàn)快速降溫；
11、低空洞率的焊接質(zhì)量：確保焊接之后，大面積焊盤(pán)實(shí)現(xiàn)3%以下的空洞率；
12、可滿(mǎn)足金錫焊片、高鉛焊料、無(wú)鉛錫膏等材料的高溫焊接要求和焊錫膏真空環(huán)境高質(zhì)量焊接的技術(shù)要求；
真空甲酸共晶爐KD-V43H技術(shù)參數(shù)：
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一
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主機(jī)參數(shù)
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設(shè)備尺寸
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1400 x 800 x
1300 mm (LxWxH)
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重 量
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約260KG
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二
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真空系統(tǒng)
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1
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真 空 泵
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真空抽速 24m3/h 油泵，干泵
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2
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真 空 度
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≤ 0.1mbar，腔體真空度值實(shí)時(shí)顯示，并可控制和調(diào)節(jié)。
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三
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氣路系統(tǒng)
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1
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氣路
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氮?dú)庠?3bar壓力下流量到 10slm，帶電磁閥控制的 MFC（氣體質(zhì)量流量控制器）。可控制工藝反應(yīng)氣體和保護(hù)氣體的流量。
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2
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氣路
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甲酸在 3bar壓力下流量到 10slm，帶電磁閥控制的 MFC（氣體質(zhì)量流量控制器）?？煽刂乒に嚪磻?yīng)氣體和保護(hù)氣體的流量。
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3
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氣路
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純氫氣/氮?dú)庠?3bar壓力下流量到 30slm，帶電磁閥控制的 MFC（氣
體質(zhì)量流量控制器）?？?*控制工藝反應(yīng)氣體和保護(hù)氣體的流量。
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四
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系統(tǒng)
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1
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腔體泄露報(bào)警功能
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能在真空失效時(shí)產(chǎn)生報(bào)警
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2
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氣路供壓報(bào)警功能
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能在氣路供壓低下時(shí)產(chǎn)生報(bào)警
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3
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腔體過(guò)壓報(bào)警功能
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能在腔體過(guò)壓時(shí)產(chǎn)生報(bào)警
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4
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氫氣**功能
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設(shè)備具有氫氣（泄露）保護(hù)系統(tǒng)和氫氣尾氣處理系統(tǒng)
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五
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加熱系統(tǒng)
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1
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加 熱 板
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帶溫度補(bǔ)償?shù)母呔燃訜岚艉妥⑷胧降牟讳P鋼冷卻水管的加熱/冷卻平板，升溫速率為 50℃/min，*高降溫速率 140℃/min；加熱板平整，長(zhǎng)期使用不變形。
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2
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超溫保護(hù)系統(tǒng)
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完全充足的超溫保護(hù)系統(tǒng)，帶雙重和獨(dú)立的超溫保護(hù)模式
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3
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加熱板數(shù)量
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1塊
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4
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加熱板尺寸
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≥430mm*252mm
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5
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加熱板可用面積
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加熱板410mm*230mm
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6
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空間高度
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加熱板平面與頂部距離約≥150mm
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7
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加熱板材料
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紫銅加熱板
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8
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工作溫度范圍
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20℃~450℃
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9
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溫度控制精度
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≤±0.5℃
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10
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溫度均勻性
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加熱板水平面溫度均勻性≤±0.5%。
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11
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電力供應(yīng)
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三相 380V 50Hz
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12
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功率
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設(shè)備全功率運(yùn)行時(shí)，功率≤10KW
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六
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控制系統(tǒng)
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1
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測(cè)溫模塊
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該設(shè)備的加熱板帶有兩個(gè)熱電偶，一個(gè)用來(lái)監(jiān)控加熱板中央的溫度， 一個(gè)用來(lái)監(jiān)控加熱板邊緣的溫度。熱板的工藝溫度都通過(guò)
PID 進(jìn)行控制。設(shè)備共配置六個(gè)熱偶。
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七
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CMC-控制系統(tǒng)
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1
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數(shù)據(jù)記錄儲(chǔ)存記錄
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具有不間斷的實(shí)時(shí)監(jiān)控和數(shù)據(jù)記錄系統(tǒng)，用于不間斷的實(shí)時(shí)監(jiān)控和記錄、保存所有工藝和設(shè)備參數(shù)。
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2
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具有工藝保護(hù)和報(bào)警系統(tǒng)
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包括真空系統(tǒng)和溫度系統(tǒng)，且能同時(shí)監(jiān)控工藝腔溫度、冷卻水溫度、功率器件溫度，在溫度超過(guò)預(yù)設(shè)值時(shí)報(bào)警并記錄故障。
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3
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具備程序編輯功能和可視化觸摸操作界面
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能實(shí)現(xiàn)所有工藝曲線(xiàn)的自動(dòng)生成，能對(duì)工藝程序進(jìn)行編輯，能根據(jù)具體工藝要求提供不同時(shí)段的真空、工藝氣體反應(yīng)、惰性氣體保護(hù)等操作，并能對(duì)所有真空、各種氣體流量、溫度等參數(shù)進(jìn)行編程控制和調(diào)節(jié)。
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4
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工藝控制系統(tǒng)
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配備能對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行控制的工藝控制系統(tǒng)，能夠修改工藝路徑和保存菜單，也可實(shí)現(xiàn)編程設(shè)置輸入和保存。
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八
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冷卻系統(tǒng)
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1
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冷卻系統(tǒng)
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自帶有的熱交換器，用于設(shè)備內(nèi)閉環(huán)冷卻水的冷卻和熱交換，為水冷系統(tǒng)提供相應(yīng)的冷卻水，有效控制循環(huán)水溫度，保護(hù)水冷系統(tǒng)。進(jìn)水溫度 15-25℃，出水溫度小于 50℃。
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九
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附加要求
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1
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工作時(shí)間
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室溫環(huán)境下可連續(xù) 24h
工作。
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2
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遠(yuǎn)程控制
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支持互聯(lián)網(wǎng)遠(yuǎn)程操控診斷。
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